【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之破邊、炸裂】:一般的鍍膜會(huì)對(duì)基片加熱,由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi),由于鏡圈或碟片與鏡片(基片)的熱膨脹系數(shù)不一致,冷卻過(guò)程中會(huì)造成鏡片的破便或炸裂。有些大鏡片,由于出罩時(shí)的溫度較高,與室溫的溫差較大,鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。改善對(duì)策:1.夾具(鏡圈、碟片)的設(shè)計(jì),在尺寸配合上要合理,充分考慮制造誤差帶來(lái)的影響。2.注意鏡圈、碟片的變形,已經(jīng)變形的夾具不能使用。3.選用合適的夾具才來(lái)哦(非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變性),不銹鋼較為理想(熱變形系數(shù)?。?,就是加工難度大,價(jià)格貴。4.對(duì)于大鏡片應(yīng)降低出罩時(shí)的溫度,減少溫差,防止炸裂。5.如果時(shí)鏡圈,可以考慮在鏡圈上開(kāi)槽,作為緩沖。真空鍍膜設(shè)備常見(jiàn)故障及解決方法。湖南真空鍍膜設(shè)備品牌
【真空鍍膜設(shè)備之低溫泵】: 低溫泵:低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機(jī)低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下,抽氣面就能大量冷凝沸點(diǎn)溫度比該抽氣面溫度高的氣體,產(chǎn)生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達(dá)到抽氣目的的泵叫做低溫泵,或稱(chēng)冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空,guang泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和集成電路的研究和生產(chǎn),以及分子束研究、真空鍍膜設(shè)備、真空表面分析儀器、離子注入機(jī)和空間模擬裝置等方面。 重慶南通高真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備操作培訓(xùn)。
【真空鍍膜設(shè)備之渦輪分子泵】: 渦輪分子泵:渦輪分子泵是利用高速旋轉(zhuǎn)的動(dòng)葉輪將動(dòng)量傳給氣體分子,使氣體產(chǎn)生定向流動(dòng)而抽氣的真空泵。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,極限真空10&7~10&8Torr,烘烤后可到10&10Torr,抽速可從50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速轉(zhuǎn)動(dòng)的渦輪轉(zhuǎn)子攜帶氣體分子而獲得高真空、超高真空的一種機(jī)械真空泵。泵的轉(zhuǎn)速為10000轉(zhuǎn)/分到50000轉(zhuǎn)/分,這種泵的抽速范圍很寬,但不能直接對(duì)大氣排氣,需要配置前級(jí)泵。分子泵抽速與被抽氣體的種類(lèi)有關(guān),如對(duì)氫的抽速比對(duì)空氣的抽速大20%。
【磁控濺射鍍膜的歷史】: 磁控濺射技術(shù)作為一種十分有效的薄膜沉積方法,被普遍地應(yīng)用于許多方面,特別是在微電子、光學(xué)薄膜和材料表面處理等領(lǐng)域。1852年Grove首ci描述濺射這種物理現(xiàn)象,20世紀(jì)40年代濺射技術(shù)作為一種沉積鍍膜方法開(kāi)始得到應(yīng)用和發(fā)展。60年代后隨著半導(dǎo)體工業(yè)的迅速崛起,這種技術(shù)在集成電路生產(chǎn)工藝中,用于沉積集成電路中晶體管的金屬電極層,才真正得以普及和guang泛的應(yīng)用。磁控濺射技術(shù)出現(xiàn)和發(fā)展,以及80年代用于制作CD的反射層之后,磁控濺射技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域得到極大地?cái)U(kuò)展,逐步成為制造許多產(chǎn)品的一種常用手段。 【磁控濺射原理】: 電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場(chǎng)作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶原子,靶原子沉積在基片表面形成膜。二次電子受到磁場(chǎng)影響,被束縛在靶面的等離子體區(qū)域,二次電子在磁場(chǎng)作用下繞靶面做圓周運(yùn)動(dòng),在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷和氬原子發(fā)生撞擊,電離出大量氬離子轟擊靶材。 【磁控濺射優(yōu)缺點(diǎn)】: 優(yōu)點(diǎn):工藝重復(fù)性好,薄膜純度高,膜厚均勻,附著力好。 缺點(diǎn):設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜,靶材利用率低。真空鍍膜設(shè)備故障解決方法?
【真空蒸鍍的歷史】:1857年MichaelFaradayZui早提出基本原理,而后、1930年代由于油擴(kuò)散式真空泵實(shí)用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時(shí),其他的光學(xué)機(jī)器對(duì)材料的需求提高,真空蒸鍍也因此快速發(fā)展?!菊婵照翦兊脑怼浚涸谡婵諣顟B(tài)下,加熱蒸發(fā)容器中的靶材,使其原子或分子逸出,沉積在目標(biāo)物體表面,形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類(lèi)可分為:抵抗加熱、電子束、高周波誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹(shù)脂與玻璃也可以使用、近年來(lái)連紙也變成可蒸鍍?!菊舭l(fā)鍍膜的優(yōu)缺點(diǎn)】:優(yōu)點(diǎn):設(shè)備簡(jiǎn)單、容易操作;成膜的速率快,效率高。缺點(diǎn):薄膜的厚度均勻性不易控制,蒸發(fā)容器有污染的隱患,工藝重復(fù)性不好,附著力不高。離子真空鍍膜設(shè)備是什么?河南怎樣操作真空鍍膜設(shè)備
真空鍍膜機(jī)故障維修技巧有哪些?湖南真空鍍膜設(shè)備品牌
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜強(qiáng)度】:膜強(qiáng)度時(shí)鏡片鍍膜的一項(xiàng)重要指標(biāo),也是鍍膜工序Zui常見(jiàn)的不良項(xiàng)。膜強(qiáng)度的不良(膜弱)主要表現(xiàn)為:1.擦拭專(zhuān)yong膠帶拉撕,產(chǎn)生成片脫落2.擦拭專(zhuān)yong膠帶拉撕,產(chǎn)生點(diǎn)狀脫落3.水煮15分鐘后用專(zhuān)yong膠帶拉撕產(chǎn)生點(diǎn)狀或片狀脫落4.用專(zhuān)yong橡皮頭、1Kg力摩擦40次,有道子產(chǎn)生5.膜層擦拭或未擦拭出現(xiàn)龜裂紋、網(wǎng)狀細(xì)道子改善思路:基片與膜層的結(jié)合是首要考慮的,其次是膜表面硬度光滑度以及膜應(yīng)力。湖南真空鍍膜設(shè)備品牌