【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤性能好、易于揮發(fā)的有機(jī)溶劑中，使之成為飽和溶液；然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面，這一過程中，為了提升效果、縮短浸泡時間，可以在抽真空或者加壓條件下對其進(jìn)行浸泡。如果存在漏孔，熒光劑溶液會因毛細(xì)作用滲入到其中；qing除表面多余的溶液，待有機(jī)溶劑揮發(fā)后，熒光材料便會在漏孔中殘留下來；此時再用紫外線燈光照射，漏孔位置就會觀察到明顯的熒光點(diǎn)。在進(jìn)行紫外光源照射時，對于一些存在盲孔、表面不平的器件，可能也會存在殘留熒光材料，因此玻璃真空器件好在背面進(jìn)行照射觀察；為了提高對比度也可以采用濾光放da鏡，過濾掉紫外線以外的其他光線，來獲得更佳的觀察效果；而在熒光材料的選擇時要注意其發(fā)光顏色和被檢真空部件的顏色要有明顯的反差。熒光檢漏法不僅用于真空系統(tǒng)檢漏中，而且也被用于鑄件、模壓金屬件以及焊接件的裂紋檢查等。射頻離子源可用于制備納米材料、薄膜、光學(xué)器件等高科技產(chǎn)品。上海光學(xué)鍍膜射頻離子源制造生產(chǎn)
【射頻離子源簡介】：國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學(xué)鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等，是公司技術(shù)團(tuán)隊全自主研發(fā)近3年時間研發(fā)出的國產(chǎn)射頻離子源，屬于國內(nèi)大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對國產(chǎn)鍍膜行業(yè)的技術(shù)封鎖，同時也激勵了國內(nèi)的同行制造業(yè)。離子源設(shè)備能促進(jìn)光電產(chǎn)業(yè)升級，在國內(nèi)也是一項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點(diǎn)。湖南光學(xué)薄膜射頻離子源價格真空鍍膜機(jī)真空度多少？
【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之氮?dú)鉀_洗】氮?dú)庠诓牧媳砻嫖綍r，由于吸附能小，因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮?dú)獾倪@種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng)，可以dada縮短系統(tǒng)的抽氣時間。如真空鍍膜機(jī)在放入da氣之前，先用干燥氮?dú)獬淙胝婵帐覜_刷一下再充入da氣，則下一抽氣循環(huán)的抽氣時間可縮短近一半，其原因?yàn)榈钟璧奈侥苓h(yuǎn)比水氣分子小，在真空下充入氮?dú)夂?，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時間縮短了。如果系統(tǒng)被擴(kuò)散泵油噴濺污染了，還可以利用氮?dú)鉀_洗法來清洗被污染的系統(tǒng).一般是一邊對系統(tǒng)進(jìn)行烘烤加熱，一邊用氮?dú)鉀_洗系統(tǒng)，可將油污染消除。
【真空鍍膜機(jī)之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。適用材料：1、很多材料可以進(jìn)行真空電鍍，包括金屬，軟硬塑料，復(fù)合材料，陶瓷和玻璃。其中*常見用于電鍍表面處理的是鋁材，其次是銀和銅。2、自然材料不適合進(jìn)行真空電鍍處理，因?yàn)樽匀徊牧媳旧淼乃謺绊懻婵窄h(huán)境。工藝成本：真空電鍍過程中，工件需要噴涂，裝載，卸載和再噴涂，所以人力成本相當(dāng)高，但是也取決于工件的復(fù)雜度和數(shù)量。環(huán)境影響：真空電鍍對環(huán)境污染很小，類似于噴涂對環(huán)境的影響。國產(chǎn)真空鍍膜機(jī)廠商推薦。
【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳?xì)浠衔锏娜コＧ逑葱ЧQ于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣)，可以利用兩個適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來達(dá)到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片，它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對某些碳?xì)浠衔锟梢垣@得更好的清洗效果。因?yàn)檠鯕饪梢允鼓承┨細(xì)浠衔镅趸梢讚]發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳?xì)浠衔铩Ｒ话闱闆r下，其中的碳不能單獨(dú)揮發(fā)．經(jīng)化學(xué)清洗后，需要引入Ar或Ar+O2混合氣體進(jìn)行輝光放電清洗，使表面上的雜質(zhì)和由于化學(xué)作用被束縛在表面上的氣體得到qing除。射頻離子源采用高頻電場來加速和離子化氣體分子，產(chǎn)生高能離子束。遼寧光學(xué)鍍膜射頻離子源批發(fā)價格
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本發(fā)明的另一目的在于提供一種便于進(jìn)行束徑調(diào)節(jié)的束徑控制裝置。本發(fā)明的另一目的還在于提供一種束徑控制方法。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為：一種射頻離子源離子束束徑約束器，其特征在于：所述束徑約束器包括具有可供離子束穿過的中空結(jié)構(gòu)的底座、多個葉片及驅(qū)動機(jī)構(gòu)；所述多個葉片設(shè)于底座一端并環(huán)繞中空結(jié)構(gòu)呈圓周排布，多個葉片的尾端伸入中空結(jié)構(gòu)所在區(qū)域以圍合形成可供離子束穿過的光闌，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)可驅(qū)動葉片的尾端相對葉片排布形成的圓周中心運(yùn)動以調(diào)節(jié)光闌大小。進(jìn)一步的，所述葉片的首端與底座的對應(yīng)端面轉(zhuǎn)動連接，所述葉片的尾端沿葉片排布形成的圓周周向依次疊放并斜向伸入所述中空結(jié)構(gòu)所在區(qū)域以形成所述光闌；所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括滑環(huán)及驅(qū)動滑環(huán)繞滑環(huán)中心旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動組件，所述滑環(huán)位于多個葉片的遠(yuǎn)離底座的一側(cè)并與多個葉片排布形成的圓周同軸設(shè)置，滑環(huán)旋轉(zhuǎn)時帶動葉片的尾端繞葉片的首端轉(zhuǎn)動以實(shí)現(xiàn)光闌大小調(diào)節(jié)。進(jìn)一步的，所述葉片呈與多個葉片排布形成的圓周同向彎曲的圓弧狀。進(jìn)一步的，所述底座的所述一端端面上設(shè)有多個呈圓周布置的定位孔，所述葉片的首端靠近底座的一側(cè)面上設(shè)有可伸入定位孔中轉(zhuǎn)動的固定軸。進(jìn)一步的。上海光學(xué)鍍膜射頻離子源制造生產(chǎn)