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貴州光纖鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

來源: 發(fā)布時間:2023-11-30

【真空鍍膜設備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度:10~30℃2、相對濕度:不da于70%3、冷卻水進水溫度:不高于25℃4、冷卻水質:城市自來水或質量相當的水5、供電電壓:380V,三相50Hz或220V,單相50Hz(由所用電器需要而定),電壓波動范圍342~399V或198V~231V,頻率波動范圍49~51Hz;6、設備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產品使用說明書上寫明。7、設備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔,不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?;驓怏w存在。此外,真空鍍膜設備所在實驗室或車間應保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染,可采用在泵的排氣口上面裝設排氣管道(金屬、橡膠管)的辦法,將氣體排出室外。關于真空鍍膜機,你知道多少?貴州光纖鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結構一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據膜層的導電與否,可分為導電真空鍍膜(VM)和不導電真空鍍膜(NCVM)兩種。VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM:具有金屬質感、透明,但不導電,一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續(xù)使用6個月以上,抽的速度會顯然變慢,當操作不當應拆去聯結水管,卸下電爐盤,將一級噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴散泵油,并裝回機體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開機。湖南AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源自主研發(fā)設計生產真空鍍膜機技術教程。

【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預抽閥→關預抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊,開轟擊30秒,關轟擊→開真空計→當真空到,關粗抽閥→開前置閥→開精抽閥,當真空達到7x10-3pa,開轉架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后,關閉真空計、離子源→關精抽閥,前置閥→關羅茨泵→開抽氣閥,取件→上料,反復開始操作。特別注意:1.設備停用時,鍍膜室要保持真空狀態(tài),減少內表面氣體的吸附,防止氧化。2.冷卻水通道場下才能對擴散泵進行加熱,未經充分冷卻的泵不得與da氣接觸,防止氧化。3.要保證機器內擴散泵和機械泵的油定期檢查和更換。4.設備運行中遇有停電或其它事故發(fā)生,須先停擴散泵,關精抽閥,前置閥和真空計。5.產品做完下班后,關了擴散泵后須待溫度降低至60℃后才能關維持泵。

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件,為了獲得原子態(tài)的清潔表面,消除其表面污染的標準方法是化學清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運行后),由于真空系統(tǒng)內的各種零部件已經被固定,這時對它們進行除氣處理就很困難,一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數的分子如碳氫化合物的污染),通常要拆卸后重新處理再安裝.而用反應氣體工藝,可以進行原位在線除氣處理.有效地除去不銹鋼真空室內的碳氫化合物的污染.其清洗機理:在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0)和還原性氣體(H2、NH3)對金屬表面進行化學反應清洗,消除污染,以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質,表面反應速率的da小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言,精確的參數要通過實驗來確定.對于不同的結晶取向,這些參數是不同的。真空鍍膜機國內有哪些產商?

【真空鍍膜機清洗工藝要求】真空工藝進行前應清洗真空材料,從工件或系統(tǒng)材料表面qing除污染物;真空零部件的表面清洗處理也是非常有必要的,因為由污染物所造成的氣體、蒸氣源不僅會使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。而且由于污染物的存在,同時也會影響真空部件連接處的強度和密封性能。污染物可以定義為“任何一種無用的物質或能量”,根據污染物的物理狀態(tài)可分為固體、氣體及液體,它們以膜或散粒形式存在。就其化學特征來看,它可以處于離子態(tài)或共價態(tài),可以是無機物或有機物。暴露在空氣中的表面易受到污染,污染的來源有很多種,初的污染通常是表面本身形成過程中的一部分。吸附現象、化學反應、浸析和干燥過程、機械處理以及擴散和離析過程都使各種成分的表面污染物增加。真空鍍膜機大概多少錢一臺?湖南AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源自主研發(fā)設計生產

真空鍍膜機的工作原理和構成。貴州光纖鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

【真空鍍膜的膜層結構分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層:靶材蒸發(fā)的結果,VM膜層可導電,NCVM鍍層不導電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚!貴州光纖鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選