【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】磁控濺射對(duì)陰極濺射中電子使基片溫度上升過(guò)快的缺點(diǎn)加以改良,形成了電場(chǎng)和磁場(chǎng)方向相互垂直的特點(diǎn)。在正交的電磁場(chǎng)的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進(jìn),從而xianzhu地延長(zhǎng)了電子的運(yùn)動(dòng)路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過(guò)一次碰撞損失一部分動(dòng)能,經(jīng)過(guò)多次碰撞后,喪失了能量成為“終電子”進(jìn)入離陰極靶面較遠(yuǎn)的弱電場(chǎng)區(qū),后到達(dá)陽(yáng)極時(shí)已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會(huì)使基片過(guò)熱。同時(shí)高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽(yáng)極的生長(zhǎng)位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長(zhǎng),以減小應(yīng)力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中的樣品溫度。真空鍍膜機(jī)的操作培訓(xùn)。廣西光學(xué)薄膜射頻離子源批發(fā)價(jià)格

    本發(fā)明涉及離子束濺射鍍膜及超精密拋光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種射頻離子源離子束束徑約束器、束徑控制裝置及方法。背景技術(shù)：離子束超精密加工研究中，離子源起著非常重要的作用。離子源是產(chǎn)生離子束流的裝置，又是離子束設(shè)備中的關(guān)鍵部件。不論是光學(xué)薄膜的制備還是納米尺度的離子束刻蝕和拋光，高性能的離子束流都是不可缺少的。目前采用的離子束源主要有考夫曼離子源、微波ecr離子源和射頻離子源，其工作原理是利用氣體放電產(chǎn)生等離子體，等離子體由電子、離子和中性粒子所組成，并被引出成束，成為離子源。射頻離子源由德國(guó)giessen大學(xué)，，從電火箭空間應(yīng)用向地面應(yīng)用擴(kuò)展而來(lái)。這種離子源具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、無(wú)極放電的優(yōu)點(diǎn)，因而對(duì)任何氣體特別是反應(yīng)氣體具有長(zhǎng)壽命、效率高的特點(diǎn)。采用射頻離子源鍍制的膜層具有吸收少、漂移小、效率高、致密性好、牢固性高等優(yōu)點(diǎn)；同時(shí)，射頻離子源離子束拋光在超精密光學(xué)元件的**終加工中應(yīng)用也非常***，是一種去除精度達(dá)到原子級(jí)別的拋光技術(shù)，被認(rèn)為是加工精度**高，修形效果**好的光學(xué)元件修形技術(shù)，在此過(guò)程中，具有一定能量和空間分布的離子束流轟擊光學(xué)元件表面，利用轟擊時(shí)發(fā)生的物理濺射效應(yīng)去除光學(xué)元件表面材料。湖南射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)的工作原理。

【真空鍍膜設(shè)備的維修及保養(yǎng)方法】1.真空鍍膜設(shè)備每完成200個(gè)鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。方法：用燒堿（NaOH）飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，（注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。2.當(dāng)粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續(xù)工作一個(gè)月（雨季減半），需更換新油。方法：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動(dòng)數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來(lái)。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續(xù)使用半年以上，換油時(shí)應(yīng)將油蓋打開，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。3.在重新開機(jī)前，要注意檢漏。方法：?jiǎn)?dòng)維持泵，關(guān)好da門，數(shù)分鐘后，觀察擴(kuò)散泵部分真空度是否達(dá)到6X10帕，否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處是否裝密封膠圈，或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱，否則擴(kuò)散泵油會(huì)燒環(huán)，真空鍍膜設(shè)備無(wú)法進(jìn)入工作狀態(tài)。

【真空鍍膜之陽(yáng)極氧化】陽(yáng)極氧化：主要是鋁的陽(yáng)極氧化，是利用電化學(xué)原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護(hù)性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性適用材料：鋁、鋁合金等鋁制品工藝成本：生產(chǎn)過(guò)程中，水、電的消耗是相當(dāng)da的，特別是在氧化工序。機(jī)器本身的熱耗，需要不停地用循環(huán)水進(jìn)行降溫，噸電耗往往在1000度左右。環(huán)境影響：陽(yáng)極氧化在能效方面不算出色，同時(shí)在鋁電解生產(chǎn)中，陽(yáng)極效應(yīng)還會(huì)產(chǎn)生對(duì)da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。光學(xué)真空鍍膜機(jī)制造商。

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種，也是簡(jiǎn)單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法，因?yàn)樗恍枰妙~外特殊的儀器或者特殊物質(zhì)，通過(guò)測(cè)量規(guī)管就可以檢測(cè)真空系統(tǒng)的總漏率，從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡(jiǎn)單，但也存在局限。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話，靜態(tài)升壓法是無(wú)法確定漏孔所在的。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時(shí)還需要確定其位置的話，就需要配合其他方法來(lái)進(jìn)行了。靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應(yīng)的壓力范圍，再關(guān)閉閥門，隔離真空泵與真空容器，然后用真空計(jì)測(cè)量記錄真空容器中壓力隨時(shí)間的變化過(guò)程，即可得出泄漏數(shù)據(jù)?！墩婵障到y(tǒng)抽氣達(dá)不到工作壓力有哪些原因》中，螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過(guò)靜態(tài)升壓法實(shí)現(xiàn)的，比較方便。當(dāng)然在應(yīng)用過(guò)程中，要提高準(zhǔn)確性就要減少其他因素干擾，需要在檢測(cè)之前對(duì)容器進(jìn)行凈化清洗并烘干，或者用氮?dú)膺M(jìn)行沖洗。更嚴(yán)格一點(diǎn)可以在測(cè)量規(guī)管與容器之間設(shè)置冷阱，處理釋放的可凝氣體，而對(duì)可能存在的漏孔所漏進(jìn)的空氣不會(huì)造成影響。真空鍍膜機(jī)的培訓(xùn)資料。湖南射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)

射頻離子源可用于制備納米材料、薄膜、光學(xué)器件等高科技產(chǎn)品。廣西光學(xué)薄膜射頻離子源批發(fā)價(jià)格

【真空鍍膜機(jī)之卷繞式鍍膜機(jī)】鍍膜產(chǎn)品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導(dǎo)電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更da，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結(jié)構(gòu)。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應(yīng)式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結(jié)構(gòu)應(yīng)用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來(lái)的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結(jié)構(gòu)必須配置較da的排氣系統(tǒng)才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結(jié)構(gòu)中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機(jī)組，使設(shè)備成本降低，并節(jié)約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。卷繞式真空鍍膜機(jī)在結(jié)構(gòu)上除了有一般鍍膜機(jī)所有的結(jié)構(gòu)外，必須有一個(gè)為了實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜而設(shè)置的卷繞機(jī)構(gòu)。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較da，因此，在真空室的結(jié)構(gòu)上又有單室和多室之分。廣西光學(xué)薄膜射頻離子源批發(fā)價(jià)格