【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導(dǎo)】真空泵安裝指導(dǎo)1、泵應(yīng)安裝在地面結(jié)實堅固的場所，周圍應(yīng)留有充分的余地，便于檢查、維護(hù)、保養(yǎng)。2、泵底座下應(yīng)保持地基水平，底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝，確保泵運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，振動小。3、泵與系統(tǒng)的連接管道應(yīng)密封可靠，對小泵可采用金屬管路連接密封墊采用耐油橡膠，對小泵可采用真空膠管連接，管道管徑不得小于泵吸氣口徑，且要求管路短而少彎頭。（焊接管路時應(yīng)qing除管道中焊渣，嚴(yán)禁焊渣進(jìn)入泵腔。）4、在連接管路中，用戶可在泵進(jìn)氣口上方安裝閥門及真空計，隨時可檢查泵的極限壓力。5、按電動機標(biāo)牌規(guī)定連接電源，并接地線和安裝合適規(guī)格的熔斷器及熱繼電器。6、泵通電試運轉(zhuǎn)時，須取下電機皮帶，確認(rèn)泵轉(zhuǎn)向符合規(guī)定方向方可投入使用，以防泵反轉(zhuǎn)噴油。（轉(zhuǎn)向按防護(hù)罩指示方向）7、對于有冷卻水的泵，按規(guī)定接通冷卻水。8、如泵口安裝電磁閥時，閥與泵應(yīng)同時動作。9、當(dāng)泵排出氣體影響工作環(huán)境時，可在排氣口裝接管道引離或裝接油霧過濾器。真空鍍膜機的工作原理和構(gòu)成。北京離子束濺射射頻離子源生產(chǎn)廠家

國泰真空GTRF-17/GTRF-23射頻離子源直流源網(wǎng)滅弧采用特殊保護(hù)方式，可以在有效的保護(hù)網(wǎng)板的時候不停機，不會導(dǎo)致客戶產(chǎn)品報廢。柵網(wǎng)采用獨特的加工工藝，確保柵網(wǎng)之間的曲率和平行度，網(wǎng)孔的中心距也做精密的調(diào)整，使得投射出來的離子束更均勻。射頻中和器采用L型接法匹配：匹配速度快，效率高，點火更優(yōu)。源頭和中和器結(jié)構(gòu)經(jīng)常拆解部分的內(nèi)六角進(jìn)行電鍍及消氣處理，防止拆卸過程卡死，備件及耗品重復(fù)利用率高。射頻電源及控制部分單獨裝配在一個電柜內(nèi)，RF線纜做防輻射和泄漏處理，避免對通訊、控制信號的干擾，同時也做良好的散熱處理。寧夏射頻離子源多少錢國產(chǎn)真空鍍膜機廠商推薦。

【真空鍍膜對環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?；M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在da氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。qing除鍍膜室內(nèi)的灰塵，設(shè)置清潔度高的工作間，保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求?？諝鉂穸萪a的地區(qū)，除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部件認(rèn)真清洗外，還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi)，注意油擴散泵返油，對加熱功率高的擴散泵必須采取擋油措施。

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否，可分為導(dǎo)電真空鍍膜（VM）和不導(dǎo)電真空鍍膜（NCVM）兩種。VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM：具有金屬質(zhì)感、透明，但不導(dǎo)電，一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續(xù)使用6個月以上，抽的速度會顯然變慢，當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。真空鍍膜機的培訓(xùn)資料。

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】1、環(huán)境溫度：10~30℃2、相對濕度：不da于70%3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz；6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。此外，真空鍍膜設(shè)備所在實驗室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。射頻離子源是一種高能離子源，可用于各種科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用。山西離子束濺射射頻離子源生產(chǎn)廠家

真空鍍膜機故障解決方法？北京離子束濺射射頻離子源生產(chǎn)廠家

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點材料也容易濺鍍，但對非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。北京離子束濺射射頻離子源生產(chǎn)廠家