【光學(xué)鍍膜在航天上的應(yīng)用】在科學(xué)衛(wèi)星表面上鍍鋁和氧化硅膜，衛(wèi)星的溫度可控制在10～40℃范圍?？臻g飛行器的主要能源是硅太陽(yáng)能電池，通常在太陽(yáng)能電池的熔石英蓋片上淀積熱性能控制濾光片。該濾光片只允許透過可轉(zhuǎn)變成電能的太陽(yáng)可見光和近紅外區(qū)的輻射，反射有害的紅外區(qū)熱量。 新一代氣象衛(wèi)星對(duì)紅外帶通濾光片的光譜控制提出了很高的要求，對(duì)濾光片片的指標(biāo)要求并非簡(jiǎn)單的數(shù)值指標(biāo)，而是一個(gè)由內(nèi)框和外框組成的框圖，氣象衛(wèi)星的光學(xué)遙感儀器通常利用多個(gè)紅外光譜通道進(jìn)行探測(cè)，3.5～4.0ptm是*為常用的光譜通道之一。為了提高儀器的光譜信噪比，提升對(duì)目標(biāo)的探測(cè)與識(shí)別能力，濾光片的光譜控制水平是一關(guān)鍵因素。對(duì)帶通膜系中反射膜層的光學(xué)厚度進(jìn)行了優(yōu)化調(diào)整，壓縮了通帶內(nèi)的波紋，根據(jù)膜層材料的折射率－溫度變化特性，設(shè)計(jì)出了低溫條件下符合光譜要求的帶通濾光片。 在航空航天等jun用領(lǐng)域中，存在強(qiáng)光和電磁干擾等環(huán)境影響因素，為了使顯示器能夠在這種惡劣環(huán)境下穩(wěn)定可靠工作，需要對(duì)顯示器進(jìn)行AR/EMI(減反射/電磁屏蔽)加固。對(duì)ITO(氧化銦錫)電磁屏蔽層與AR(減反)膜系進(jìn)行綜合設(shè)計(jì)。 光學(xué)鍍膜機(jī)的主要應(yīng)用。河北光學(xué)鍍膜機(jī)市場(chǎng)趨勢(shì)

【光學(xué)薄膜的應(yīng)用前景】光電信息產(chǎn)業(yè)中*有發(fā)展前景的通訊、顯示和存儲(chǔ)三大類產(chǎn)品都離不開光學(xué)薄膜，如投影機(jī)、背投影電視機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、攝像機(jī)、DVD，以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等，光學(xué)薄膜的性能在很大程度上決定了這些產(chǎn)品的*終性能。光學(xué)薄膜正在突破傳統(tǒng)的范疇，越來(lái)越廣fan地滲透到從空間探測(cè)器、集成電路、生物芯片、激光器件、液晶顯示到集成光學(xué)等各學(xué)科領(lǐng)域中，對(duì)科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和全球經(jīng)濟(jì)的發(fā)展都起著重要的作用，研究光學(xué)薄膜物理特性及其技術(shù)已構(gòu)成現(xiàn)代科技的一個(gè)分支——薄膜光學(xué)。光學(xué)薄膜技術(shù)水平已成為衡量一個(gè)國(guó)家光電信息等高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)科技發(fā)展水平的關(guān)鍵技術(shù)之一。 增透減反AR膜，主要也是為了應(yīng)對(duì)國(guó)內(nèi)大的風(fēng)砂。像塵、砂，都會(huì)對(duì)增透膜產(chǎn)生劃痕方面的影響。這個(gè)是增透膜耐濕冷、耐摩擦方面的情況。 天津高真空光學(xué)鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜機(jī)常見故障及解決方法。

【光學(xué)鍍膜之何為物理蒸鍍】物理蒸鍍就是把物質(zhì)加熱揮發(fā)，然后將其蒸氣沉積在預(yù)定的基材上。由于蒸發(fā)源須加熱揮發(fā)，又是在真空中進(jìn)行，故亦稱為熱蒸鍍或真空蒸鍍。 其可分為三個(gè)步驟 (1)凝態(tài)的物質(zhì)被加熱揮發(fā)成汽相 (2)蒸汽在具空中移動(dòng)一段距離至基材 (3)蒸汽在基材上冷卻凝結(jié)成薄膜 膜厚的量測(cè)方法有哪些呢， 大致上可分為原位量測(cè)、離位量測(cè)兩類：原位星測(cè)系指鍍膜進(jìn)行中量測(cè)，普遍使用在物理qi相沉積，如微天平、光學(xué)、電阻量測(cè)。 離位量測(cè)系指鍍膜完成后量測(cè)，對(duì)電鍍膜的行使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質(zhì)量、剖面計(jì)、掃描式電子顯微鏡。

【光學(xué)濾光片相關(guān)名詞解釋】 中心波長(zhǎng)(CWL): 濾光片在實(shí)際應(yīng)用中所使用的波長(zhǎng),如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長(zhǎng)就是850nm。 峰值透過率(TP): 假設(shè)光初始值為100%,通過濾光片后有部分損耗了,通過光譜測(cè)量得出只有85%了,那就可以把這個(gè)濾光片的光學(xué)透過率定為(Tp)>80%。 半帶寬(FWHM): 簡(jiǎn)單說(shuō)就是*高透過率的1/2處所對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng),左右波長(zhǎng)值相減,例如,峰值*好是90%,1/2就是45%,45%所對(duì)應(yīng)的左右波長(zhǎng)是875nm和825nm,那半帶寬就是50nm。 截止率(Blocking): 截止區(qū)所對(duì)應(yīng)的透過率.由于要想透過率達(dá)到零,那是非常難的事情,只能選擇它透過率接近于零，但通常透過率達(dá)到10的負(fù)5次方以上就可以滿足大部分使用要求，通常轉(zhuǎn)換為光學(xué)密度值，用OD>5表示。 截止波段: 可接受的不需要的波長(zhǎng)*小區(qū)間范圍，由于多數(shù)電子成像用的感光器件的響應(yīng)范圍是350-950nm,在實(shí)際中確定范圍稍稍比這個(gè)區(qū)間寬一點(diǎn)即可。紫外及紅外的截止范圍確定比這個(gè)要繁雜一些，需要根據(jù)使用的探頭響應(yīng)范圍來(lái)確定。 光學(xué)鍍膜機(jī)機(jī)組是怎樣的？

【光學(xué)鍍膜工藝】 　　光學(xué)鍍膜所涉及的制造工藝是勞動(dòng)和資本密集型的，并且十分耗時(shí)。影響鍍膜成本的因素包括被鍍膜的光學(xué)件的數(shù)量，類型，尺寸，需要鍍多少層膜以及光學(xué)件上需要鍍膜的表面數(shù)量。鍍膜采用的沉積工藝對(duì)鍍膜成本以及鍍膜性能方面的影響也十分巨大。此外，在這之前還需要做大量的準(zhǔn)備工作，以確保每個(gè)鍍膜光學(xué)件的質(zhì)量都能達(dá)到Z高水平。 　　在鍍膜之前，清潔和準(zhǔn)備光學(xué)件是非常重要的。光學(xué)元件必須具有適合鍍膜粘附的清潔表面。一旦鍍上膜，基片上未預(yù)先除去的污漬就很難被去除了。愛特蒙特光學(xué)?會(huì)進(jìn)行一絲不茍的清潔，從而確保Z終產(chǎn)品擁有始終如一的高質(zhì)量。 　　不同的鍍膜沉積技術(shù)，具有各自的優(yōu)缺點(diǎn)。蒂姆(北京)新材料科技有限公司可以提供采用不同的鍍膜沉積技術(shù)鍍膜用的濺射靶材、蒸發(fā)鍍膜材料。請(qǐng)聯(lián)系我們，告訴我們哪種鍍膜材料Z適合您的應(yīng)用。 光學(xué)鍍膜機(jī)日常怎么維護(hù)？福建光學(xué)鍍膜機(jī)廠

光學(xué)鍍膜機(jī)公司的排名。河北光學(xué)鍍膜機(jī)市場(chǎng)趨勢(shì)

【光學(xué)鍍膜機(jī)的維護(hù)與保養(yǎng)之電子qiang頭和坩堝的維護(hù)】電子qiang的qiang頭安裝好壞直接影響到工作的正常進(jìn)行，其發(fā)生的故障有90%同電子qiangqiang頭有關(guān)。 電子qiangqiang頭有使用一段時(shí)間后，會(huì)因?yàn)榻M件的污染而影響電子束的成型及功率，需要拆卸清潔。 拆坩堝之前，請(qǐng)先關(guān)掉水路用壓縮空氣把電子qiang冷卻管內(nèi)的水分盡可能吹干凈。 蒸發(fā)源裝卸順序：1.拆落兩條冷卻水連接管。2.擰出電子qiangqiang頭連接高壓線兩個(gè)螺絲。3.拆坩堝傳動(dòng)連接座、聯(lián)軸器。4.擰落蒸發(fā)源四個(gè)固定螺絲。5.把蒸發(fā)源搬運(yùn)到一個(gè)穩(wěn)定平整的工作臺(tái)。6.拆落坩堝蓋板四個(gè)螺絲，取下蓋板打磨干凈。7.檢查蓋板上面兩個(gè)密封圈是否需要更換。8.把蒸發(fā)源反轉(zhuǎn)過來(lái)倒置，用木板墊住坩堝部分。9.擰下固定坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)四個(gè)螺絲10.抬起蒸發(fā)源，取下坩堝 11.把坩堝倒置，擰下坩堝底蓋的八個(gè)螺絲，清洗干凈里面的污垢，檢查是否需要近密封圈。12.擰下導(dǎo)水管的一個(gè)螺絲13.擰下坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)與坩堝蓋板連接的四個(gè)螺絲 14.撥出坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)軸，檢查轉(zhuǎn)動(dòng)軸的油封是否需要換件 15.把坩堝清潔干凈安裝。安裝按上面的倒過順序來(lái)進(jìn)行。 河北光學(xué)鍍膜機(jī)市場(chǎng)趨勢(shì)

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