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新疆真空鍍膜設(shè)備廠

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-09-25

【真空鍍膜濺射種類】: 1、反應(yīng)濺射:氧化物,氮化物作為沉積物質(zhì) 現(xiàn)象:①:靶材分子分裂,其于工藝氣體離子發(fā)生反應(yīng),形成化合物 ②:膜層性能改變 ③:靶材有可能中毒 2、二極濺射:二極濺射是一種經(jīng)典的標(biāo)準(zhǔn)濺射技術(shù),其中等離子體和電子均只沿著電場(chǎng)方向運(yùn)動(dòng)。 特征:①:無(wú)磁場(chǎng) ②:濺射率低 ③:放電電壓高(>500V) ④:鍍膜底物受熱溫度極易升高(>500°C) 用途:主要用于金屬靶材、絕緣靶材、磁性靶材等的濺射鍍。 3、磁控濺射:暗區(qū)無(wú)等離子體產(chǎn)生,在磁控濺射下,電子呈螺旋形運(yùn)動(dòng),不會(huì)直接沖向陽(yáng)極。而是在電場(chǎng)力和磁場(chǎng)力的綜合作用在腔室內(nèi)做螺旋運(yùn)動(dòng)。同時(shí)獲的能量而和工藝氣體以及濺射出的靶材原子進(jìn)行能量交換,使氣體及靶材原子離子化,dada提高氣體等離子體密度,從而提高了濺射速率(可提高10—20倍)和濺射均勻性。 真空鍍膜設(shè)備常見(jiàn)故障及解決方法。新疆真空鍍膜設(shè)備廠

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜外色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對(duì)策: 1. 對(duì)減反膜,設(shè)計(jì)條件許可時(shí),外層加以SiO2層,10nm左右即可(一般的外層膜是MgF2)。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質(zhì)的侵蝕。 2. 適當(dāng)降低蒸鍍速率(在一定范圍內(nèi)),提高膜層光滑度,減少吸附。 3. 鏡片在出罩后,待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后,放置在潔凈干燥的場(chǎng)合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉,輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環(huán)境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環(huán)境,使充入的大氣干燥、潔凈。 8. 工作人員的個(gè)人衛(wèi)生改善 9. 檢討真空室返油狀況,防止返油。 10. 適當(dāng)降低基片溫度。 11. 改善膜系,取消太薄的膜層,根據(jù)硝材特性,選擇合適的膜層材料。 福建ito真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備培訓(xùn)資料。

【近些年來(lái)出現(xiàn)的新的鍍膜方法】: 除蒸發(fā)法和濺射法外,人們又綜合了這兩種方法的優(yōu)缺點(diǎn),取長(zhǎng)補(bǔ)短,發(fā)展出一些新的方法,如:等離子體束濺射等。這種嶄新的技術(shù)結(jié)合了蒸發(fā)鍍的高效和濺射鍍的高性能特點(diǎn),特別在多元合金以及磁性薄膜的制備方面,具有其它手段無(wú)可比擬的優(yōu)點(diǎn)。高效率等離子體濺射(High Target Utilization Plasma Sputtering(HiTUS))實(shí)際上是由利用射頻功率產(chǎn)生的等離子體聚束線圈、偏壓電源組成的一個(gè)濺射鍍膜系統(tǒng)。這種離子體源裝置在真空室的側(cè)面。如圖1所示。圖2為實(shí)際的鍍膜機(jī)照片。該等離子體束在電磁場(chǎng)的作用下被引導(dǎo)到靶上,在靶的表面形成高密度等離子體。同時(shí)靶連接有DC/RF偏壓電源,從而實(shí)現(xiàn)高效可控的等離子體濺射。等離子體發(fā)生裝置與真空室的分離設(shè)計(jì)是實(shí)現(xiàn)濺射工藝參數(shù)寬范圍可控的關(guān)鍵,而這種廣闊的可控性使得特定的應(yīng)用能確定工藝參數(shù)Zui優(yōu)化。 與通常的磁控濺射相比,由于磁控靶磁場(chǎng)的存在而在靶材表面形成刻蝕環(huán)不同,HiTUS系統(tǒng)由于取消了靶材背面的磁鐵,從而能對(duì)靶的材料實(shí)現(xiàn)全mian積均勻。

【真空鍍膜之真空的概念】: “真空”是指在給定空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài),也就是該空間內(nèi)氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。不同的真空狀態(tài),就意味著該空間具有不同的分子密度。在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)(STP:即0℃,101325Pa,也就是1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,760Torr)下,氣體的分子密度為2.68E24/m3,而在真空度為1.33E&4 Pa(1E&6Torr)時(shí),氣體的分子密度只有3.24E16/m3。完全沒(méi)有氣體的空間狀態(tài)為Jue對(duì)真空。Jue對(duì)真空實(shí)際上是不存在的。真空鍍膜設(shè)備品牌排行。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜臟】: 顧名思義,膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟也可以包括:灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等。 改善對(duì)策:檢討過(guò)程,杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過(guò)多的不良附著物。 2. 加強(qiáng)鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環(huán)境,防止污染。 4. 養(yǎng)成上傘作業(yè)員的良好習(xí)慣,防止鏡片污染。 5. 加快真空室護(hù)板更換周期。 6. 充氣管道清潔,防止氣體充入時(shí)污染。 7. 初始排期防渦流(湍流),初始充氣防過(guò)充。 8. 鏡片擺放環(huán)境和搬運(yùn)過(guò)程中避免油污、水汽。 9. 工作環(huán)境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機(jī)作業(yè)面板和主機(jī)隔開(kāi),減少主機(jī)產(chǎn)生的有害物質(zhì)污染鏡片。真空鍍膜設(shè)備的主要應(yīng)用。江蘇回收真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜設(shè)備真空四個(gè)階段。新疆真空鍍膜設(shè)備廠

【磁控濺射鍍膜的歷史】: 磁控濺射技術(shù)作為一種十分有效的薄膜沉積方法,被普遍地應(yīng)用于許多方面,特別是在微電子、光學(xué)薄膜和材料表面處理等領(lǐng)域。1852年Grove首ci描述濺射這種物理現(xiàn)象,20世紀(jì)40年代濺射技術(shù)作為一種沉積鍍膜方法開(kāi)始得到應(yīng)用和發(fā)展。60年代后隨著半導(dǎo)體工業(yè)的迅速崛起,這種技術(shù)在集成電路生產(chǎn)工藝中,用于沉積集成電路中晶體管的金屬電極層,才真正得以普及和guang泛的應(yīng)用。磁控濺射技術(shù)出現(xiàn)和發(fā)展,以及80年代用于制作CD的反射層之后,磁控濺射技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域得到極大地?cái)U(kuò)展,逐步成為制造許多產(chǎn)品的一種常用手段。 【磁控濺射原理】: 電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場(chǎng)作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶原子,靶原子沉積在基片表面形成膜。二次電子受到磁場(chǎng)影響,被束縛在靶面的等離子體區(qū)域,二次電子在磁場(chǎng)作用下繞靶面做圓周運(yùn)動(dòng),在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷和氬原子發(fā)生撞擊,電離出大量氬離子轟擊靶材。 【磁控濺射優(yōu)缺點(diǎn)】: 優(yōu)點(diǎn):工藝重復(fù)性好,薄膜純度高,膜厚均勻,附著力好。 缺點(diǎn):設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜,靶材利用率低。 新疆真空鍍膜設(shè)備廠

成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司主要經(jīng)營(yíng)范圍是機(jī)械及行業(yè)設(shè)備,擁有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和良好的市場(chǎng)口碑。公司業(yè)務(wù)分為光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備等,目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力,努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí),遵守行業(yè)規(guī)范,植根于機(jī)械及行業(yè)設(shè)備行業(yè)的發(fā)展。國(guó)泰真空憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來(lái)的聲譽(yù)和口碑,讓企業(yè)發(fā)展再上新高。