【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動性和干涉現象為基礎的。二個振幅相同，波長相同的光波疊加，那么光波的振幅增強；如果二個光波原由相同，波程相差，如果這二個光波疊加，那么互相抵消了。 1）振幅條件：膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2）位相條件：膜層厚度應為基準光的1/4波長。d=λ/4 λ=555nm時，d=555/4=139nm 對于減反射膜層，許多眼鏡片生產商采用人眼敏感度較高的光波（波長為555nm)。當鍍膜的厚度過?。ā?39nm),反射光會顯出淺棕黃色，如果呈藍色則表示鍍膜的厚度過厚（ 〉139nm）。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射，但并不可能做到沒有反射光線。鏡片的表面也總會有殘留的顏色，我們也會發(fā)現殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同，因此在鏡片中yang部分呈綠色，而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。 3）鍍減反射膜技術 ：有機鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫，而有機鏡片在超過100 °C時便會發(fā)黃，隨后很快分解。 光學鍍膜機廠家排名。山東萊寶光學鍍膜機授權

【光學鍍膜機的維護與保養(yǎng)之電子qiang頭和坩堝的維護】電子qiang的qiang頭安裝好壞直接影響到工作的正常進行，其發(fā)生的故障有90%同電子qiangqiang頭有關。 電子qiangqiang頭有使用一段時間后，會因為組件的污染而影響電子束的成型及功率，需要拆卸清潔。 拆坩堝之前，請先關掉水路用壓縮空氣把電子qiang冷卻管內的水分盡可能吹干凈。 蒸發(fā)源裝卸順序：1.拆落兩條冷卻水連接管。2.擰出電子qiangqiang頭連接高壓線兩個螺絲。3.拆坩堝傳動連接座、聯(lián)軸器。4.擰落蒸發(fā)源四個固定螺絲。5.把蒸發(fā)源搬運到一個穩(wěn)定平整的工作臺。6.拆落坩堝蓋板四個螺絲，取下蓋板打磨干凈。7.檢查蓋板上面兩個密封圈是否需要更換。8.把蒸發(fā)源反轉過來倒置，用木板墊住坩堝部分。9.擰下固定坩堝轉動四個螺絲10.抬起蒸發(fā)源，取下坩堝 11.把坩堝倒置，擰下坩堝底蓋的八個螺絲，清洗干凈里面的污垢，檢查是否需要近密封圈。12.擰下導水管的一個螺絲13.擰下坩堝轉動機構與坩堝蓋板連接的四個螺絲 14.撥出坩堝轉動軸，檢查轉動軸的油封是否需要換件 15.把坩堝清潔干凈安裝。安裝按上面的倒過順序來進行。 云南光學鍍膜機配色軟件光學鍍膜機使用時，需要注意哪些問題?

【常見的光學鍍膜材料】常見的光學鍍膜材料有以下幾種： 1、氟化鎂材料特點：無se四方晶系粉末，純度高，用其制備光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。 2、二氧化硅材料特點：無se透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。 3、氧化鋯材料特點 白se重質結晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩(wěn)定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點

【光學鍍膜之CVD化學氣相沉積法反應可以分為哪些步驟】 (1)不同成份氣相前置反應物由主流氣體進來，以擴散機制傳輸基板表面。理想狀況下，前置物在基板上的濃度是零，亦即在基板上立刻反應，實際上并非如此。 (2)前置反應物吸附在基板上，此時仍容許該前置物在基板上進行有限程度的表面橫向移動。 (3)前置物在基板上進行化學反應，產生沉積物的化學分子，然后經積聚成核、遷移、成長等步驟，*后聯(lián)合一連續(xù)的膜。 (4)把多余的前置物以及未成核的氣體生成物去吸附。 (5)被去吸附的氣體，以擴散機制傳輸到主流氣相，并經傳送排出。 成都光學鍍膜機的生產廠家。

【光學薄膜新進展之太陽能選擇性吸收膜和高功率激光膜】 太陽能選擇性吸收膜：根據黑體輻射通用曲線可以求得太陽約有98%的輻射能分布在0.17～2.5Lm的光譜范圍，其中有90%的輻射能位于0.4～2.0Lm的可見光、近紅外范圍。隨著人們對太陽能的充分利用，用于太陽能光熱轉換的太陽能選擇性吸收膜具有很大的研究價值和廣fan的應用前景，引起科研人員的極大興趣。 高功率激光膜：準分子激光正在廣fan應用于分析化學、光譜學、半導體工藝、激光泵浦、激光聚變、光化學、醫(yī)學和空間技術等領域。紫外反射鏡是準分子激光器的重要光學元件，但所選用的膜料比可見光區(qū)和近紅外區(qū)膜料非常有限，制備工藝特別復雜。而金屬反射鏡已經不能滿足技術的要求，所以必須研制低損耗的全介質反射鏡。 PVD光學鍍膜機的公司。江西真空光學鍍膜機

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【光學真空鍍膜機之電子蒸鍍】 電子qiang蒸鍍系統(tǒng)的原理是利用電子qiang所射出之電子束轟擊待鍍材料,將高能電子射束之動能轉為熔化待鍍材料之熱能,其擁有較佳之熱轉換效率,同時也可得到較高的鍍膜速率,而且利用電流大小控制熱電子數目也可精密調控其蒸發(fā)速率。電子束的來源主要由電子qiang系統(tǒng)提供,電子qiang的操作原理類似于陰極射線管,它的電源輸出功率可從1kw到1000kw,使得電子束的動能達到30kev 以上。當陰極燈絲被施以低壓電流而達到白熱化時,電子將從燈絲表面釋出而向四方發(fā)射,且隨燈射溫度提高而增加其釋放量,此為熱電子。 一般低功率電子qiang之電子束的折射方向是靠永久磁鐵的磁場,而高功率電子qiang則需使用電磁鐵。電子束加速后可直接撞擊在薄膜材料上使之蒸發(fā),但蒸發(fā)之原子或分子會污染電子源,因此通常將電子源藏在裝薄膜材料之qiang座底下,而利用強力磁場將電子束偏向180°或270°。因電子qiang蒸鍍法,對某些精密光學元件的薄膜品質要求而言仍有不足,其膜層微觀結構呈現柱狀形態(tài),孔隙多,裝填密度低,造成較大的光學吸收,且耐潮性、硬度及附著度都較差。 山東萊寶光學鍍膜機授權

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