【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之軟X射線多層膜】意大利、英國(guó)、法國(guó)、美國(guó)和俄羅斯等國(guó)對(duì)軟X射線多層膜開展了廣fan研究，軟X射線的光譜區(qū)為1～30nm，據(jù)報(bào)道，不同波長(zhǎng)的各種軟X射線多層膜都取得了可喜的成績(jī)。 采用離子束濺射和磁控濺射等鍍膜技術(shù)制備的軟X射線多層膜，在X光激光器、X射線望遠(yuǎn)鏡等高技術(shù)方面得到應(yīng)用；近年來，X射線天文學(xué)、軟X射線顯微術(shù)、軟X射線投影光刻以及軟X射線激光均取得了很好的發(fā)展，其中軟X射線多層膜起著關(guān)鍵作用。意大利和荷蘭聯(lián)合研制并成功發(fā)射了探測(cè)X射線的衛(wèi)星以及發(fā)射了“多面鏡X射線觀測(cè)衛(wèi)星”，均使用了軟X射線多層膜；美國(guó)已多次發(fā)射帶有正入射的X射線多層膜系統(tǒng)的衛(wèi)星，得到了4.4～30.4″nm波段的高分辨率太陽圖像。 光學(xué)鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。山東光學(xué)鍍膜機(jī)出售轉(zhuǎn)讓

【光學(xué)鍍膜在手機(jī)領(lǐng)域中的應(yīng)用】在手機(jī)領(lǐng)域中除了成像品質(zhì)外，鏡頭的透過率對(duì)提升圖像品質(zhì)起著非常重要的作用。目前手機(jī)行業(yè)通常采用樹脂作為鏡片基材，為了減少鏡片反射，提升透過率，我們會(huì)在鏡片表面鍍AR增透膜（減反膜），它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜，可在特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)將元器件表面的反射率*小化。未鍍膜的情況下，光學(xué)元件每個(gè)表面由于反射會(huì)產(chǎn)生約4%的能量損耗(圖一)。如果3個(gè)未鍍膜的透鏡組合使用，則在6個(gè)表面都會(huì)發(fā)生反射，實(shí)驗(yàn)測(cè)得，光通過透鏡組后共損耗21.7%的能量。如果存在AR增透膜每個(gè)表面的反射率將小于0.5%(圖二)，因此鍍?cè)鐾改た墒乖摴鈱W(xué)系統(tǒng)的透過率從78.3%提高至97%。通常情況下一層膜只對(duì)某一波段光線起作用，為了提升寬波段下鏡片透過率，手機(jī)鏡頭AR膜一般包含多個(gè)膜層，以材料折射率高低相間隔分布，通過建模軟件，每一層膜的厚度都被優(yōu)化，就可以改善光學(xué)元件在特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的性能。從膜系層數(shù)而言，我們一般設(shè)定為1到8層，較多的膜層數(shù)能優(yōu)化寬光譜波段范圍內(nèi)的反射率，減弱光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)由于光線反射引起的鬼影。河北光學(xué)鍍膜機(jī)的生產(chǎn)廠家光學(xué)鍍膜機(jī)廠家qian十。

【光學(xué)鍍膜機(jī)電子qiang打火問題】 電子qiang在蒸鍍時(shí)，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線，即產(chǎn)生打火。另外，若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物，會(huì)使該處電場(chǎng)集中了容易打火。故電子束蒸鍍?cè)O(shè)備的高壓電源都附有高壓自動(dòng)滅弧復(fù)位裝置，在打火非常嚴(yán)重時(shí)才會(huì)自動(dòng)切斷高壓，然后又自動(dòng)恢復(fù)，切斷與恢復(fù)的時(shí)間愈短，愈不會(huì)影響蒸鍍工藝。 高壓引線應(yīng)盡量短，并用接地良好的不銹鋼板屏蔽住，不要追求美觀把引線彎來彎去。 qiang頭金屬件和引線定期用細(xì)砂紙打光，然后用丙tong清洗干凈。上螺釘?shù)穆菘锥ㄆ谟媒z錐攻螺孔，以便螺釘上下方便并保證壓的很緊。 所有陶瓷件污染后應(yīng)予更換。 電子qiang體應(yīng)可靠接地。 對(duì)放氣量大的材料應(yīng)充分預(yù)熱以徹底除氣。蒸鍍時(shí)功率要合適，不可過高造成材料飛濺。 高壓饋線與高壓絕緣子金屬件的接線一定要可靠并經(jīng)常檢查，以免增大接觸電阻造成發(fā)熱而燒壞。 蒸發(fā)檔板應(yīng)高于蒸發(fā)源70mm.

【光學(xué)真空鍍膜機(jī)之電子蒸鍍】 電子qiang蒸鍍系統(tǒng)的原理是利用電子qiang所射出之電子束轟擊待鍍材料,將高能電子射束之動(dòng)能轉(zhuǎn)為熔化待鍍材料之熱能,其擁有較佳之熱轉(zhuǎn)換效率,同時(shí)也可得到較高的鍍膜速率,而且利用電流大小控制熱電子數(shù)目也可精密調(diào)控其蒸發(fā)速率。電子束的來源主要由電子qiang系統(tǒng)提供,電子qiang的操作原理類似于陰極射線管,它的電源輸出功率可從1kw到1000kw,使得電子束的動(dòng)能達(dá)到30kev 以上。當(dāng)陰極燈絲被施以低壓電流而達(dá)到白熱化時(shí),電子將從燈絲表面釋出而向四方發(fā)射,且隨燈射溫度提高而增加其釋放量,此為熱電子。 一般低功率電子qiang之電子束的折射方向是靠永久磁鐵的磁場(chǎng),而高功率電子qiang則需使用電磁鐵。電子束加速后可直接撞擊在薄膜材料上使之蒸發(fā),但蒸發(fā)之原子或分子會(huì)污染電子源,因此通常將電子源藏在裝薄膜材料之qiang座底下,而利用強(qiáng)力磁場(chǎng)將電子束偏向180°或270°。因電子qiang蒸鍍法,對(duì)某些精密光學(xué)元件的薄膜品質(zhì)要求而言仍有不足,其膜層微觀結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)柱狀形態(tài),孔隙多,裝填密度低,造成較大的光學(xué)吸收,且耐潮性、硬度及附著度都較差。 光學(xué)鍍膜機(jī)抽真空步驟。

【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之金剛石薄膜及類金剛石薄膜】金剛石被認(rèn)為是自然界中*硬的物質(zhì)。在自然界中，碳以3種同位素異型體的形式存在，非晶態(tài)的炭黑、六方片狀結(jié)構(gòu)的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導(dǎo)率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學(xué)惰性強(qiáng)和耐高溫、彈性模量大，摩擦系數(shù)jin為0.05。金剛石薄膜的高熱導(dǎo)率、高摩擦系數(shù)和良好的透光性也使其常作為導(dǎo)彈的整流罩材料。 類金剛石(diamond-likecarbon，DLC)薄膜是碳的一種非晶態(tài)，它含有大量的sp3鍵，硬度超過金剛石硬度20%的絕緣硬質(zhì)無定形碳膜，被稱為類金剛石膜，類金剛石膜具有高硬度、高電阻率、熱傳導(dǎo)率高、化學(xué)惰性強(qiáng)、良好的光學(xué)性能等，同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳膜。隨著人們研究的深入，人們發(fā)現(xiàn)類金剛石膜具有很大的研究?jī)r(jià)值和廣fan的應(yīng)用前景，引起學(xué)術(shù)界極大興趣。美國(guó)已經(jīng)將類金剛石薄膜材料作為國(guó)家21世紀(jì)的戰(zhàn)略材料之一。 電子束蒸發(fā)光學(xué)鍍膜機(jī)是什么？山西光學(xué)鍍膜機(jī)操作

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【光學(xué)鍍膜法的應(yīng)用之化學(xué)鍍膜法和物理鍍膜法】 浸鍍法是唯yi可以同時(shí)制作雙面膜的方法。不過，后來的一些鏡片設(shè)計(jì)要求，不需要雙面膜。因此，必須將另一面清洗掉，增加了成本和環(huán)保的負(fù)擔(dān)。 噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴qiang上，噴在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃載體可以是移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)，以增加膜的均勻性。可鍍雙面或單面。以此方法延生的還有一種甩膠法。將溶液滴至鏡片中心，利用鏡片高速旋轉(zhuǎn)的離心力，將溶液均勻的“拋”在表面上。以現(xiàn)在的觀點(diǎn)來看，化學(xué)鍍膜的好處，在于其設(shè)備投資低，因此它仍然是鍍有機(jī)膜的一種常用且成本低廉的方法。 化學(xué)鍍膜法具有價(jià)格低，操作容易等優(yōu)點(diǎn)，但也有相對(duì)污染較大，無法鍍多層膜的缺點(diǎn)。新一代的鍍膜技術(shù)改用物理方式，以真空蒸鍍、離子鍍等多種不同的形式進(jìn)行。 物理鍍膜的過程是在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化，在工作氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉淀積在被鍍基片表面的過程。物理鍍膜的強(qiáng)度和均勻性普遍高于化學(xué)鍍膜，而且Z重要的是物理鍍膜可以進(jìn)行多層鍍膜，而化學(xué)鍍膜受限于其工作原理基本只能實(shí)現(xiàn)單層鍍膜。 山東光學(xué)鍍膜機(jī)出售轉(zhuǎn)讓

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