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    本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種拋光減薄裝置和拋光減薄方法。背景技術(shù)：采用iii-v族化合物制作的半導(dǎo)體器件和超高速數(shù)字/數(shù)?；旌想娐返葢{借其優(yōu)良的頻率特性，已經(jīng)成為通訊、雷達(dá)、制導(dǎo)、空間防御、高速智能化武器及電子對(duì)抗等現(xiàn)代化裝備的部件之一。在眾多的iii-v族化合物中，inp(磷化銦)化合物具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)，這主要得益于其優(yōu)良的材料特性，例如，inp和ingaas(銦鎵砷)之間的晶格失配很小，以及電子飽和速率很高等，所以不論是hemt(highelectronmobilitytransistor，高電子遷移率晶體管)結(jié)構(gòu)還是hbt(heterojunctionbipolartransistor，異質(zhì)結(jié)雙極晶體管)結(jié)構(gòu)，都具有非常優(yōu)異的高頻、大功率性能。但是，inp材料的物理性能卻很差，非常易碎，很小的碰撞或振動(dòng)都會(huì)導(dǎo)致晶圓碎裂而前功盡棄，因此，inp材料的制造加工面臨著很多工藝上的難題。尤其是在超高頻率、大功率的inp基rfic(射頻集成電路)的制造工藝中，如何在對(duì)inp基晶圓進(jìn)行減薄拋光時(shí)，減小或避免inp基晶圓的損傷是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題之一。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：有鑒于此，本發(fā)明提供了一種拋光減薄裝置和拋光減薄方法，以減小或避免inp基晶圓的減薄拋光損傷。為實(shí)現(xiàn)上述目的。池州什么是減薄用清洗劑廠家現(xiàn)貨去除多余涂層，減薄用清洗劑是您不可或缺的好幫手。

    經(jīng)減薄處理后的玻璃可再次進(jìn)入所述沖洗區(qū)2以經(jīng)歷減薄后清潔并且通過所述轉(zhuǎn)換區(qū)1被卸載到外部；所述玻璃減薄設(shè)備還設(shè)置有制動(dòng)組件，通過所述制動(dòng)組件實(shí)現(xiàn)所述玻璃加工治具4從所述轉(zhuǎn)換區(qū)1經(jīng)所述沖洗區(qū)2向所述蝕刻區(qū)3的減薄前移動(dòng)，以及從所述蝕刻區(qū)3經(jīng)所述沖洗區(qū)2向所述轉(zhuǎn)換區(qū)1的減薄后移動(dòng)。在本實(shí)施例中，圖1內(nèi)并排設(shè)置有2個(gè)所述玻璃減薄設(shè)備，所述沖洗區(qū)2包括沖洗區(qū)2、第二沖洗區(qū)2和第三沖洗區(qū)2，所述第二沖洗區(qū)2設(shè)置于所述沖洗區(qū)2和所述第三沖洗區(qū)2之間，所述沖洗區(qū)2設(shè)置于所述第二沖洗區(qū)2和所述轉(zhuǎn)換區(qū)1之間，所述第三沖洗區(qū)2設(shè)置于所述第二沖洗區(qū)2和所述蝕刻區(qū)3之間。所述轉(zhuǎn)換區(qū)1可升降的折疊式結(jié)構(gòu)，從而便于所述玻璃加工治具4在所述轉(zhuǎn)換區(qū)1的放置或卸下。較佳的，所述轉(zhuǎn)換區(qū)1還設(shè)置有裝卸臂，通過所述裝卸臂可實(shí)現(xiàn)對(duì)所述玻璃加工治具4的上下料，以及單片玻璃的拿取檢測(cè)。實(shí)施例二如圖2所示，圖2為所述蝕刻區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖；所述蝕刻區(qū)3包括腔室31、主厚度測(cè)量?jī)x32、噴淋組件33和控制器；所述噴淋組件33在所述腔室31中對(duì)設(shè)置于所述玻璃加工治具4上的玻璃施加減薄處理，所述主厚度測(cè)量?jī)x32實(shí)時(shí)測(cè)量在所述腔室31內(nèi)經(jīng)歷減薄處理的玻璃厚度。

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